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GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀是依據二極（DC）直流濺射原理設計而成的最-簡單、可靠、經濟的鍍膜設備。本機特別之處是在一個真空室內安裝了三個靶，旋轉樣品臺可依次在同一樣品上涂覆三種材料。因此，適用于實驗室各種復合膜樣品的制備，以及非導體材料實驗電極的制作。

GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀是依據二極（DC）直流濺射原理設計而成的最-簡單、可靠、經濟的鍍膜設備，適用于實驗室各種復合膜樣品的制備，以及非導體材料實驗電極的制作。

VTC-1RF是一款小型臺式單靶等離子濺射儀(射頻磁控型)，配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻（RF）等離子電源，此款設備主要用于制作非導電薄膜，特別是一些氧化物薄膜。對于新型非導電薄膜的探索，它是一款廉價并且高效的實驗幫手。 VTC-1RF 1 英寸小型磁控射頻濺射鍍膜儀

VTC-2RF是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF電源、2“的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜，它是一款物美價廉的實驗幫手。 VTC-2RF 2英寸300W射頻磁控濺射鍍膜儀

VTC-16-3HD是一款緊湊型CE認證的等離子薄膜濺射儀(直流普通型)，基片最大尺寸2英寸，加熱溫度為500度和控制面板為觸摸屏模式。它可以濺射三種類型的靶材和放置樣品的直徑是50mm . 旋轉樣品臺，可以依次在同一樣品上涂覆三種材料，金靶，銀，銅, 它可以與真空泵，不銹鋼波紋管KFD25快速卸裝卡箍相連用。 VTC-16-3HD小型三靶等離子濺射儀